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集成电路布图设计登记 软件著作权登记加急办理 专利申请

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最后更新: 2018-09-07 20:01
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    集成电路布图设计登记须知:

    一、集成电路布图设计登记条件1、要求保护的布图设计必须具有独创性,即该布图是创作者自己的智力劳动成果,并且在其创作时,该布图设计不是布图设计创作者和集成电路制造者中公认的常

    规设计;2、受保护的由常规设计组成的布图设计,其组合作为整体同样应当具有独创性。

    二、集成电路布图设计登记所需文件1,布图设计登记申请表一式两份;

    2,布图设计的复制件或者图样一份;

    3,布图设计在申请日前已经投入商业利用的,提交四件含有该布图设计的集成电路样品

    4,国务院知识产权行政部门规定的其他材料。

    三、集成电路复制件或图样1、申请人提交的复制件或者图样应当至少放大到用该布图所生产电路的20倍以上;2、布图设计的复制件图样有多张纸件的,应按顺序编号并附具目录;3、布图设计的复制或者图样应当使用A4纸格式,一式两份;4、复制件或者图样可以出具简单的文字说明,用以说明集成电路布图设计的结论、技术、功能。

    注:布图设计专有权的保护期为10年,自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算,以较前日期为准。但是,无论是否登记或者投入商业利用,布图设计自创作完成之日起15年后,不再受本条例保护。 

    申请周期:2个月左右下证

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